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半導體生產專用純水設備

產品介紹

  硅(gui)片(pian),是制作集成(cheng)電路的(de)重要材料,通過對硅(gui)片(pian)進行光刻、離子注入等手段,可以制成(cheng)各種(zhong)半導(dao)體器件。用硅(gui)片(pian)制成(cheng)的(de)芯片(pian)有(you)著驚(jing)人的(de)運算能力。科學技術(shu)的(de)發(fa)(fa)展不(bu)斷(duan)推動著半導(dao)體的(de)發(fa)(fa)展。自動化(hua)和計算機等技術(shu)發(fa)(fa)展,使(shi)硅(gui)片(pian)(集成(cheng)電路)這(zhe)種(zhong)高技術(shu)產(chan)品(pin)的(de)造價已(yi)降到(dao)十分(fen)低廉的(de)程度(du)。這(zhe)使(shi)得硅(gui)片(pian)已(yi)廣泛(fan)應用于航空航天、工業、農業和國防,甚至悄悄進入每(mei)一(yi)個家庭。

工藝設計
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透設備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
設備特點

  1、連續(xu)運行(xing)禪水質穩定品質更佳。

  2、系(xi)統(tong)運行可靠(kao)性穩(wen)定。

  3、運行成本低。

  4、占地面積(ji)小(xiao)。

  5、自動(dong)化(hua)程度高。

  6、操作及維(wei)護簡單,無需接觸酸堿(jian)。

  7、使用(yong)安全及環境良(liang)好。

  8、無污水排放(fang),無環境污染。

技術參數
電導率:2-10μS/cm(25℃)
PH值:6.5-9
水溫度:5~35℃
總硬度:<0.5ppm
有機物:<0.5 ppm,TOC為零
氧化物:≤0.05ppm
鐵、錳:<0.01ppm
二氧化硅:<0.05 ppm
二氧化碳:<5ppm
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