半導體硅片生產用超純水處理設備
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設備型號
YB-CCS-001
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產水量
可根據用戶要求而(er)定
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適用范圍
1、半導體材料(liao)、器件(jian)、印刷電(dian)路板和集成電(dian)路成品、半成品用超(chao)(chao)純(chun)水(shui)(shui);
2、超(chao)(chao)純(chun)材料(liao)和超(chao)(chao)純(chun)化學試劑勾兌用超(chao)(chao)純(chun)水(shui)(shui);
3、實驗室和中試車間用超(chao)(chao)純(chun)水(shui)(shui);
4、汽車、家電(dian)表(biao)面拋光處理;
5、光電(dian)子(zi)產品;
6、其他高科技精微產品。
產品介紹
硅片，是制作集成電路的重要材料，通過對硅片進行光刻、離子注入等手段，可以制成各種半導體器件。用硅片制成的芯片有著驚人的運算能力。科學技術的發展不斷推動著半導體的發展。自動化和計算機等技術發展，使硅片（集成電路）這種高技術產品的造價已降到十分低廉的程度。這使得硅片已廣泛應用于航空航天、工業、農業和國防，甚至悄悄進入每一個家庭。
工藝設計
1、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透設備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
2、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透→PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
3、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
設備特點
1、連續運行禪水質穩定品質更佳。
2、系統運行可靠性穩定。
3、運行成本低。
4、占地面積小。
5、自動化程度高。
6、操作及維護簡單，無需接觸酸堿。
7、使用安全及環境良好。
8、無污水排放，無環境污染。
技術參數
電導率：2-10μS/cm（25℃）
PH值：6.5－9
水溫度：5～35℃
總硬度：<0.5ppm
有機物：<0.5 ppm,TOC為零
氧化物：≤0.05ppm
鐵、錳：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm
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